Product type
應用范圍：
精密光學薄膜、電學薄膜。如濾光片、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜等各種膜系，能夠實現0-200層膜的膜系鍍膜。
產品特點：
配置高精密的電子槍和離子源。集成電阻蒸發，鍍膜工藝和膜厚自動控制，薄膜質量穩定 。
電子槍蒸發光學鍍膜機參考選型
項目 | 技術指標 | ||
型號 | KVE- 1320 | KVE -1600 | KVE-2000 |
腔體 | ?1320×H1200mm | ?1600×H1300mm | ?2000×H1400mm |
工件架轉速 | 0~60RPM（可變） | ||
成膜室抽速 | 3.0×10-3Pa≤30min | ||
極限真空度 | 8.0×10-5Pa | ||
鍍膜系統 | 電子槍蒸發 、電阻蒸發 | ||
濺射靶材 | C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各種化合物等 | ||
膜厚控制 | 晶控或光控 | ||
控制系統 | 工控電腦+觸摸屏 |
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