Product type
應用范圍：
LOW-E、電致變色等建筑玻璃行業。CIGS、碲化鎘、晶體硅等新能源行業。平板顯示、觸控面板、手機前后蓋等消費電子行業。
產品特點：
? 大面積鍍膜，多室多靶位，靈活性大;
? 磁導向傳輸系統，平穩可靠;
? 鍍膜前有離子源對基片進行表面清洗和活化，提高附著力，改善膜層質量;
? 真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽氣能力;
? 便于維修的側裝分子泵和全開式真空室門;
? 自行開發的方便的用戶易操作控制軟件;
? 工件架識別系統運用，工藝質量有可追溯性;
? 真空室的模塊式設計，單點定位，便于拆裝。
連續型鍍膜線參考選型
項目 | 技術指標 |
極限真空度 | 8.0×10-4Pa |
基片尺寸 | 不限 |
鍍膜系統 | DC、MF或RF磁控濺射源 ；PECVD |
濺射靶材 | C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各種化合物等 |
生產節拍 | 30秒---180秒 |
控制系統 | 工控電腦+觸摸屏 |
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